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第497章 军工芯片甚至65纳米以上就行（第1页）

叶回舟从后世过来太知道芯片这个领域这个赛道上，所有竞争者都是奔着挣钱去的，谁的技术更先进，谁的成本更低，就可以获得巨额的利润。

这就更促使各位玩家进行长期巨量投入，各项成本也就水涨船高，一旦落后。

再想赶上，不是仨瓜两枣一天两天的事儿。

而且失去的不仅仅是技术优势，更是市场占有率。

没有市场的回馈和巨额利润的滋养，芯片的研投入就算是美的这样财大气粗的也供养不起。

大6一直到9o年，领导层才终于现了其中隐藏的危机。

于是开始跟有核心技术的国家合并建厂，那都是后话。

现在，叶回舟就是个临时工，虽然他这一年做了许多，但是他在领导的眼里，就是一个不懂事的天才，好用，但不要给他们惹事。

而且他岁数小，说出来的话都没人信，就算信了也是半信半疑。

也没法改变，造不如买的大的环境。

现在，岛国半导体。以很便宜的价格正在对大6输出半导体成熟设备。

而，我们国家的半导体设备虽然在明面上，紧紧追赶岛国和西方，整体技术先进上相差并不大。

但是岛国跟西方的技术是成熟技术，我们还在实验室里，没有形成产业，即使造出再先进的设备，也不会推广。

白白浪费了，打开国门的黄金机会。

以至于1o年之后，我们就完全追不上了！

叶回舟穿过来之前，大6半导体设备上刚刚力，西方就觉得危险了。

限制了euV光刻机，那这一点对咱们的影响还是很大。

叶回舟还记得这次政策的原文翻译中，对光刻机有着特别明确的技术术语，光源波长是193纳米以上，而且光源波长乘以o.25，再除以数值孔径，得到的数值是45及以下的。

所以啊，出口禁止的这条线基本就画在了45纳米和28纳米之间了，这个，正好是浸墨式duv的范围。

换句话说，干式duv光刻机还可以卖，但是，浸墨式duv光刻机不能卖给我们了。

普通的dV光刻机，最多能做到9o纳米和65纳米制成的芯片，再往下就得缩小光的波长了。

光刻就是在晶源上雕花，光就是刻刀，光的波长越少，这把刀也就越来越锋利，光刻的分辨率就更高，雕得花就可以越来越细致。

现在，8o年代初，老美的实验室里就已经有了纳米级光刻机，只不过还在保密中。

叶回舟也是过来人，做dIy工作室的一半是跟机加工打交道，一半是跟半导体打交道。

所以他深深地知道半导体产业之所以复杂，是因为它是一张复杂的网，九宫格里套着九宫格。

越是先进的半导体产业越是需要光刻机和很多其他的设备配套来共同使用。

也就是说，即使有一天我们真的有了28纳米制成的光测机，但是呢，如果真要量产出28纳米的芯片。

还需要28纳米的刻蚀机，还需要28纳米的薄膜沉积设备，离子注入设备、涂胶显影机、测量仪等等。

越往后，半导体产业的设备，越复杂。